根据Kuai Technology，7月4日，2023年底，光刻机器巨头ASML使用Twinscan Exe：5000型号提供了Intel的EUV光刻机器的第一系列。当时，人们普遍认为，EUV播放和下一个代代处理器生产的高度。但是直到今天，主要的晶圆铸造厂减少了他们的高希望和进口时间的延迟。特别是，英特尔导演的讲话引起了许多有关高EUV光刻机器前景的问题。根据拒绝命名的英特尔导演的说法，GAAFET和CFET等新的晶体管设计减少了在高级光刻设备中制作芯片的希望，尤其是Machineseuv光刻的机器。这些设计旨在包裹四个侧面的门，并用蚀刻来清除多余的材料，而不是增加晶圆曝光时间以减小电路的尺寸。由于要制作芯片的重要性，高euv的态度微不足道。主任认为，诸如现场效果晶体管（GAFET）和互补场效应晶体管（CFET）之类的新设计将显着提高流行后制造措施，尤其是礼节技术的重要性，从而削弱了岩石学在整体过程中的优势。通常，制作芯片的过程始于光刻，首先将设计模式转移到晶圆上。然后通过去除材料添加材料，然后选择材料通过蚀刻去除，最终形成电路的晶体管和结构。董事指出，未来的重点只能从依赖光刻机器的依赖来缩小更复杂和关键的行为过程中的特征维度，以确保对新的三维晶体管结构的精确塑造。这表明芯片制造技术路线的重大变化可能是有害的。实际上，TSMC也表达了不久前的类似观点。 1.4nm工艺的技术过程不需要高的光刻机器，目前没有理由使用。 “对于A14，在不使用高孔径的情况下，改善我前面提到的表现也非常重要。因此，我们的技术团队继续寻找扩展现有EUV的生活的方式。”了解到，当前最新的ASML高数字（High-NA）EUV矩阵机器是最先进的EUV矩阵机器，目前是全球最先进的刻板机，是全球，价格为单位，价格为400亿美元。许多制造商不鼓励这样的高价。到目前为止，ASML已向包括客户和三星在内的客户提供了总共5个单元，它重180吨，并且像双层公共汽车一样，使其成为世界上最昂贵的半导体制造设备之一。
